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UV-DC痕检文检比对软件

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产品编号
GA02
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UV_DC痕检文检比对软件

 

UV_DC痕检文检比对系统是北京和众视野科技有限公司开发的配合比对显微镜使用并能够独立进行比对工作的一套显微图像软件,该软件能够扩展比对显微镜的使用功能,并能够大幅提高比对效率。

 

主要功能:

 

l动态划痕类线条比对(线条痕迹如划擦痕迹,剪切痕迹);

l静态压痕类形态比对(凹陷痕迹如打击痕迹,撬压痕迹,模具冲压痕迹等);

l印章类比对;

 

采集模块主要特点:

 

l支持多种采集方式(模拟摄像头,数码摄像头,单反相机);

l对采集图像进行多层景深合成;

l支持对多种显微镜的自动改造;

 

比对模块主要特点:

 

l提供图片间比对或图片与图像输入信号的实时比对;

l提供模仿比对显微镜的直线比对基线(适用划痕)和新型的圆型比对基线(适用弹壳);

l提供比对目标基线相符程度进行自动判定,并可提供比对目标的基线灰度相似度曲线;

l提供模仿比对显微镜的移动,转动及缩放等位置调整工具,并能记录调整步骤及参数;

l提供三种人工比对方式:拼接比对,重叠比对,交替比对;

l提供针对图章类的自动形态比对;

l可输出带比对基线及叠加标尺的图片;

l可进行文字标注和测量;

 

 

应用:

 

l提高比对显微镜使用效率,加快办案速度;

l扩展比对方式可对较大物品或不同采集来源物品进行比对;

l培训技术人员;

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